專利法係為了鼓勵、保護、利用發明、新型及設計之創作，促進產業發展而制訂。政府透過賦予一定期間之排他權利作為保障，使創作人願意依專利制度規範公開技術，同時藉由技術之公開，第三人可避免重複投入研發，亦得以此為基礎再研發，或藉由專利權授權機制利用此技術。從研發到專利，創作人必須將技術付諸於文字，一方面以申請專利範圍取得權利保護，另一面以專利說明書公開技術使他人得以利用；申請專利範圍及說明書的撰寫攸關創作人能否取得專利權以及取得何種範圍的權利保護。本課程闡釋專利制度，進而說明專利文件撰寫的重點事項。...
從研發到專利：談專利撰寫重點
談設計專利圖式之明確且充分揭露
設計專利圖式的充分揭露是設計專利申請過程中的關鍵議題，申請人須透過清晰且充分的圖式揭露以展示所主張的設計，確保專利審查員及公眾能夠準確理解設計的視覺特徵。本課程講解設計專利圖式的揭露標準與要求，並介紹多種在設計專利實務中可利用的揭露方式，包括六面視圖、輔助視圖及局部放大圖等，期有助申請人有效且合規地揭露所要主張的設計，從而確保設計專利申請的完整性及保護範圍的確定性。...
設計專利之可專利標的與不可專利標的
隨著科技迅速發展，智慧型手機、平板電腦的汰換與革新更加蓬勃，各大品牌進一步積極投入穿戴式裝置的研發工作；這類產品的外觀及使用者介面的視覺設計通常是能否吸引消費者購買的重要因素之一。對於專利的重視也逐漸從過去著重技術發明擴展到設計專利，其重要性已不可同日而語。本次課程介紹設計專利的基本概念，並淺述臺灣、大陸、美國設計專利法律制度的異同。...
